Дифракционные оптические элементы и синтезированные голограммы

Дифракционные оптические элементы (ДОЭ) –– это оптические подложки с амплитудными и/или фазовыми дифракционными структурами на одной из поверхностей, рассчитанные с помощью компьютера и изготовленные методом прецизионной лазерной или электронно-лучевой литографии.

Точность изготовления дифракционных структур на пластинках диаметром до 230 мм составляет 50 нм. Применяемая нами технология позволяет создавать дифракционные структуры непосредственно на покрытых хромом подложках с помощью лазерного пучка. Для создания фазового рельефа на поверхности оптических подложек используется процесс реактивного ионного травления.

ЗАО «ДИФРАКЦИЯ» изготавливает по заказу следующие типы дифракционных элементов:

Размеры подложки, D	Диаметр D < 230 мм Толщина L=1...24 мм
Материал подложки	Оптическое стекло, плавленый кварц, ситал и т.д.
Световой диаметр, Dсв	90%
Материал амплитудной структуры	Хром, толщина 40-50 нм
Минимальная ширина структуры, dmin	0.6 мкм
Минимальный период структуры, T	1.2 мкм
Погрешность структуры относительно центра, δ	<50 нм
Погрешность волнового фронта, ΔW *	Не хуже λ/20 (PV), λ/100 rms

*- без учета плоскостности подложки для ДОЭ с T>2 мкм

Размеры подложки, D	Диаметр D =< 230 мм Толщина L=1...24 мм
Материал подложки	Плавленый кварц
Световой диаметр, Dсв	90%
Глубина рельефа, h	0.1...3 мкм
Минимальная ширина структуры, dmin	1 мкм
Минимальный период структуры, T	2 мкм
Погрешность структуры относительно центра, δ	<50 нм
Погрешность волнового фронта, ΔW *	Не хуже λ/10 (PV), λ/100 rms

*- без учета плоскостности подложки для ДОЭ с T>4 мкм

Размеры подложки, D	Диаметр D < 230 мм Толщина L=1...24 мм
Материал подложки *	Оптическое стекло, плавленый кварц, ситал, и т.д.
Световой диаметр, Dсв	90%
Глубина рельефа, h	0.1...3 мкм
Материал амплитудной структуры	Хром, толщина 40-50 нм
Минимальная ширина структуры, dmin	2.5 мкм
Минимальный период структуры, T	5 мкм
Погрешность структуры относительно центра, δ	<0.25 мкм
Погрешность волнового фронта, ΔW *	Не хуже λ/10 (PV), λ/100 rms

*- рельефные элементы изготавливаются в плавленом кварце и кремнии.

**- без учета плоскостности подложки для ДОЭ с T>10 мкм

Размеры подложки, D	Диаметр D < 100 мм Толщина L=1...10 мм
Материал подложки	Плавленый кварц
Световой диаметр, Dсв	90%
Глубина пилообразного рельефа, h	0.1...3 мкм
Минимальный период структуры, T	5 мкм
Погрешность структуры относительно центра, δ	<0.25 мкм

Размеры подложки, D	Диаметр D = 10...100 мм Толщина L=1...10 мм
Материал подложки	Плавленый кварц
Размер микролинз	От 10×10 мкм до 5×5 мм
Форма профиля	Осевые, внеосевые, сферические, асферические, свободной формы
Коэффициент заполнения	До 100%
Числовая апертура линз, NA	NA < 0.25
Рабочая длина волны, λ	В диапазоне 0.2 — 5 мкм
Дифракционная эффективность *	< 80%

*- для линз с NA < 0.15 и λ > 630нм.